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| 品牌 | Edmund Optics | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
UltraFast Innovations (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡
設(shè)計(jì)用于65eV（19nm）下的 330 阿秒脈沖
具有38%峰值反射率的多層鍍膜
≤1? 表面粗糙度超拋光基底
另外提供專為 13.5nm 設(shè)計(jì)的極紫外（EUV）平面反射鏡 和 極紫外（EUV）球面反射鏡
備有現(xiàn)貨庫存
無最小起訂量、無鍍膜批次費(fèi)用
型號(hào)
| 產(chǎn)品編碼 | 標(biāo)題 |
| #16-765 | 25.4mm Dia., 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Flat Mirror |
| #16-766 | 25.4mm Dia. x 250mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror |
| #16-767 | 25.4mm Dia. x 500mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror |
詳細(xì)資料
UltraFast Innovations (UFI)的極紫外光(EUV/XUV)阿秒多層反射鏡設(shè)計(jì)用于阿秒脈沖的轉(zhuǎn)向、聚焦和整形。他們的多層膜中心位于65eV（19nm），帶寬為6eV（1.8nm），為 S 偏振光提供38%的峰值反射率。這些反射鏡支持持續(xù)時(shí)間為330阿秒的極紫外（EUV）脈沖。 UFI極紫外（EUV/XUV）阿秒反射鏡是基于高次諧波（HHG）、自由電子激光器（FEL）或其他量子光學(xué)應(yīng)用產(chǎn)生和整形阿秒脈沖的理想選擇。
原子般精密的離子束沉積可以獲得原子般光滑的鍍膜。這些反射鏡能夠在不斷增長的應(yīng)用空間中高效精確地控制波長和光譜相位。亞秒科學(xué)突破了超快激光器的極限，提供了接觸一些最基本的科學(xué)過程的機(jī)會(huì)，如：電子的運(yùn)動(dòng)。極紫外（EUV）反射鏡也被稱為XUV/軟X射線反射鏡。極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡背后的物理原理是來自多層膜堆疊的每個(gè)界面反射和散射 EUV 輻射的干涉。可提供直徑為25.4mm的平面反射鏡和凹面反射鏡；如果您的應(yīng)用需要定制中心能量、帶寬或其他規(guī)格的極紫外（EUV）多層反射鏡，請(qǐng)與我們聯(lián)系。
技術(shù)數(shù)據(jù)
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